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鸿达兴业:氢气可用于清洁EUVL曝光设备

作者:admin 发布时间:2020-06-01 18:12

  同花顺300033)金融研究中心5月31日讯,有投资者向鸿达兴业002002)提问, 您好,近日,氢云链从semiconductors报道了解到,用于半导体的下一代光刻技术的曝光设备,即极紫外光刻(EUV光刻或EUVL)技术,似乎使用了大量的氢气,请问公司的产品哪些是用于光刻行业的呢?谢谢

  公司回答表示,公司生产液氢、高纯氢气、超纯氢气等产品, 可广泛应用于氢燃料汽车、石油化工、电子工业、冶金工业、食品加工、浮法玻璃、有机合成等领域,氢气可用于清洁EUVL曝光设备。

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